Equipement

Préparation des échantillons

 

Analyse des matériaux

 

• Diffractométrie des rayons X
• Matériallographie (attaque chimique, microscope optique métallographique)
• Microscopie en champ proche (AFM, EFM, MFM)
• Microscopie Electronique à Balayage (MEB)
• Microscopie Electronique en Transmission (MET)
• Spectrométrie d’Electrons Auger (AES)
• Spectrométrie de Masse d’Ions Secondaires en mode statique (ToF-SIMS)
• Spectrométrie de Masse d’Ions Secondaires en mode dynamique (D-SIMS)
• Spectrométrie de Photoélectrons X (XPS, ESCA)

 

Traitement de surface

 

• Diagnostics plasma (spectrométrie optique, mesures électriques, etc.)
• Mesure d’adhésion (peel-test)
• Mesure des angles de contact et des tensions de surface
• Réacteurs plasma à pression atmosphérique (plasma DBD, torche DBD, torche micro-onde)
• Enceinte pulvérisation magnétron et plasma immersion (PIII)
• Enceinte PVD (magnétrons, IBAD)
• Réacteur de dépôts par épitaxie (MBE)

 

Développement instrumental

 

• Cation Mass Spectrometer
• Instrument «Storing Matter»
• Banc de caractérisation de sources d'ions et de colonnes d'optique électrostatique

 

Génie des nanomatériaux

• Atomic Layer Deposition with Fluidized-Bed Option
• Organic Materials Vapour Phase Deposition (CRP-Gabriel Lippmann proprietary method)
• Advanced MetalOrganic Vapour Phase Deposition
• Electrochemical Pattern Replication – (CRP-Gabriel Lippmann proprietary technologies)

 

Autres équipements

 

• Angle de goutte
• Peeling test
• Surface profilometry
• Préparation d'échantillons